フォトリソグラフィーとは何ですか?
フォトリソグラフィーは、集積回路 (IC またはチップ) の製造における重要なプロセスの 1 つです。 簡単に言うと、フォトマスクとフォトレジストを使って基板上に回路パターンを転写する工程です。
基板は二酸化シリコン絶縁層とフォトレジスト上に塗装されます。 フォトレジストは、UV光にさらされた後、現像液で簡単に溶解でき、溶解剤とエッチングの後、回路パターンが基板上に残ります。
フォトレジストとは何ですか? なぜ500nmの紫外線波長を遮断しなければならないのですか?
フォトレジストは、樹脂、溶剤、添加剤と組み合わされます。 フォトレジストの感光範囲は 200nm-500nm です。 したがって、多くの半導体研究室では、フォトレジストの過度の露光や早期露光の状況を防ぐために、500nm の UV 波長を遮断する黄色光を採用します。
